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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为84英寸晶圆生产加工线一起的超注射用水程序,没天行成含硅废水治疗150吨。废水治疗中虽无巨资属,但硅含锌量高易积垢,且内阻率需实现18MΩ·cm就能够中水回用。改变治疗工艺流程始终无法 满足需要新颁布实施的《电子器件制造业水破坏物排卸准则》(GB39731-2020)特意排卸标准值。 废水处理工艺有效成分特征 最主要的的工业废气 :氢氧化铁硅(200-300mg/L)、粉末硅(粒度分布0.1-1μm) 特出请求 :TOC<10μg/L,硼占比<5μg/L 水质检测特点 :低电阻率(<50μS/cm)但硅化学物质性状更复杂 治疗施工工艺操作流程 什么是创新所采用"梯级膜溶合+电去亚铁离子"女子组合工艺设计: 微滤预处里 :1μm工业陶瓷膜短信拦截大粒子硅,通量保护80LMH 阳离子相互交换不饱和树脂 :D201大孔环氧树脂考虑性气体吸附硅酸分子结构 二次RO平台 :第一次段收废率60%,第二步段用于高脱硼膜pcb板 EDI电去阳离子 :功率容重2A/m²,不断地的还原残余物阴离子 紫外线消毒杀菌 :254nm红外光谱线极量40mJ/cm² 水平特点 的开发专用的阻硅剂(无机胺类塑料物),抑制膜污染源定期3倍 EDI功能模块研发流道结构设计,硅剔除率升高至99.8% 网络硅分析一下仪(侧量比率0.1-500μg/L)达到有目的操控 作业效益 经其三方协议探测: 总硅从280mg/L降到0.05mg/L 硼含量从8μg/L下降0.3μg/L 软件的回收利用率从原40%加快至68% 膜更新频次延伸至5年,年进行代价拉低35%

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