某半导体技术生产加工公司企业因晶圆的洗涤加工过程导致含氨污废水 ，需水量200吨/天。污废水 中除高锰酸盐指数外还有氟化物和少量高价属，工作难度系数大。本地人释放规范想要高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水组成成分及由来 晶圆难以清理生产废水（重点特征）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀道工序废渣：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值变化大 CMP研磨机工业废水：含硅颗粒剂及化学需氧量 正确处理工艺设计步骤 采取"耐腐蚀发展+膜转移+折点氯化"乐队组合施工工艺： 预工作 ：污泥脱水CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 反渗透装置体统 ：剔除0.01μm上文顆粒物 反渗透设备法萃取 ：将氯离子浓缩提炼至1000mg/L不低于 折点氯化 ：透彻操作氯污泥脱水量，将氯离子转换为N2 阳离子调换 ：有效保障了高价属不合格 终结感觉 挥发酚稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含水量低过在线检测限 水中水回用率达75% 生活污水出现量增多40%